微弧氧化技術(shù)實(shí)質(zhì)上是一種高壓的陽(yáng)極氧化,至今是鎂合金表面處理效果最好的氧化技術(shù)。微弧氧化工藝是在適當(dāng)?shù)拿}沖電參數(shù)和電解液條件下,使陽(yáng)極表面產(chǎn)生微區(qū)等離子弧光放電現(xiàn)象,陽(yáng)極上原有的氧化物瞬間熔化,同時(shí)又受電解液冷卻作用,進(jìn)而在金屬表面原位生長(zhǎng)出陶瓷質(zhì)氧化膜的過(guò)程。

        與普通陽(yáng)極氧化膜相比,這種膜的空隙率大大降低,從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO和MgAl2O4尖晶石相組成,總膜厚可達(dá)100Lm以上,具有明顯的三層結(jié)構(gòu):外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。但其受自身電解工藝影響，無(wú)法避免形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過(guò)程電解質(zhì)溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時(shí)間長(zhǎng)。

        微弧氧化技術(shù)雖說(shuō)是目前鎂合金表面處理效果最好的技術(shù)，還不能完全解決鎂合金腐蝕痛點(diǎn)，因此，從技術(shù)的角度加強(qiáng)鎂合金表面處理技術(shù)的發(fā)展、深入研究保護(hù)膜形成的機(jī)理，可進(jìn)一步改善表面防護(hù)膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點(diǎn)，在行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域上對(duì)推進(jìn)鎂合金材料在航空航天、交通領(lǐng)域與電子工業(yè)等領(lǐng)域的應(yīng)用具有十分重要的現(xiàn)實(shí)意義和經(jīng)濟(jì)效益。

        鎂合金復(fù)合氧化技術(shù)，是華清高科針對(duì)鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問(wèn)題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了這些問(wèn)題，復(fù)合氧化技術(shù)是繼化學(xué)鍍、轉(zhuǎn)化膜涂層、陽(yáng)極氧化、有機(jī)物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術(shù)。

        通過(guò)復(fù)合氧化技術(shù)對(duì)鎂合金的處理形成的膜層與普通的陽(yáng)極氧化膜、微弧氧化膜層相比,空隙小,空隙率低,與基質(zhì)結(jié)合緊密,且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。鎂合金復(fù)合氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良,與鎂合金結(jié)合牢固,且工藝簡(jiǎn)單,對(duì)環(huán)境污染小, 所得膜層均勻、質(zhì)硬，可以起到長(zhǎng)期的保護(hù)作用,鎂合金裸膜狀態(tài)下鹽霧時(shí)間可達(dá)200小時(shí)，目前對(duì)其生長(zhǎng)規(guī)律、生長(zhǎng)機(jī)理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究。華清高科復(fù)合氧化技術(shù)在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用,是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。

        復(fù)合氧化技術(shù)處理能力強(qiáng)，可通過(guò)改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過(guò)改變或調(diào)節(jié)膜層厚度使鎂合金表面具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對(duì)同一工件進(jìn)行多次復(fù)合氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。復(fù)合氧化技術(shù)雖尚未投入大規(guī)模生產(chǎn)，但已引起人們的普遍關(guān)注，在許多工業(yè)領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景，是鎂合金表面處理技術(shù)發(fā)展的一個(gè)重要突破。

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