微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽極區(qū)產生等離子微弧放電，瞬間的高溫燒結作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區(qū)溫度可以達到1000℃以上，從而使陽極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質膜大大提高了陽極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過500h，涂層附著力達到0級，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進一步涂裝保護。

        微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽極區(qū)產生等離子微弧放電，瞬間的高溫燒結作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區(qū)溫度可以達到1000℃以上，從而使陽極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質膜大大提高了陽極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過500h，涂層附著力達到0級，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進一步涂裝保護。

        微弧氧化所形成的氧化膜具有明顯的三層結構：外部的疏松層、中間的致密層和內部的結合層。致密層占總膜厚的90%，與基體形成微區(qū)冶金結合。微弧氧化疏松層中存在許多孔洞及其他缺陷，其物理、化學特性與微弧氧化處理時電參量的選擇、電解液的配方以及樣品自身的特性有關。

        微弧氧化工藝的特點是：①應用成本比硬質陽極氧化低；②前處理較為簡單；③環(huán)境良好；④對形狀復雜的工件以及受限通道可以形成均勻的膜層；⑤尺寸形變??；⑥耐蝕性良好。

        但微弧氧化自身受電解工藝影響，無法避免的形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過程電解質溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時間長。

        綜上，鎂合金微弧氧化技術雖然可以應用在鎂合金表面處理工藝中，但還不能完全解決鎂合金生銹痛點，因此，從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發(fā)展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業(yè)應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業(yè)等領域的應用具有十分重要的現(xiàn)實意義和經濟效益。

        復合氧化技術，是一種針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術。鎂合金復合氧化技術具有工藝簡單、材料適應性寬等特點，所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鹽霧時間可達200小時，涂層與基體的結合緊密,這也是鎂合金表面處理技術發(fā)展的一個重要突破。